CAS NO:157057-20-0 PEES/4-(Ethoxyethoxy)styren

CAS NO:157057-20-0 PEES/4-(Ethoxyethoxy)styren

Fformiwla Moleciwlaidd: C12H16O2
Pwysau moleciwlaidd: 192.25
Cais: Defnyddir PEES yn bennaf ar gyfer synthesis resin o photoresist KrF mewn microelectroneg lled-ddargludyddion, deunyddiau polymer bloc swyddogaethol a deunyddiau lithograffeg hunan-gynulliad nano.
Anfon ymchwiliad
Disgrifiad
Paramedrau technegol

 

Disgrifiad Cynnyrch

 

Mae PEES (pEES) yn cario grŵp amddiffyn ethoxyethoxy asid-labile, y gellir ei ddadamddiffyn yn gyflym o dan gatalysis asid. Mae'n cynnwys sefydlogrwydd thermol da ac amhureddau metel uwch-isel. Gellir ei bolymeru i baratoi polyhydroxystyren (PHS) ar gyfer ffotoresydd KrF cydraniad uchel wedi'i chwyddo'n gemegol.

 

Manyleb Cynhyrchion

 

Enw cynnyrch PEES/4-(Ethoxyethoxy)styren
RHIF CAS 157057-20-0
EITEM RHIF M120
Ymddangosiad Hylif clir di-liw
Purdeb Mwy na neu'n hafal i 99%
Cynnwys Dŵr Llai na neu'n hafal i 0.05 %
amhureddau ïon metel Llai na neu'n hafal i 1 ppb
Pecyn 100g/1kg/10kg ac ati.
Cyflwyno 2-3 diwrnod
Storio tymheredd ystafell
MSDS/COA/TDS Cysylltwch ni

 

Cynnyrch Cais

 

Defnyddir PEES (p-(1-Ethoxyethoxy) styrene) yn bennaf ar gyfer synthesis resin photoresist KrF mewn microelectroneg lled-ddargludyddion, deunyddiau polymer swyddogaethol a diwydiant ymchwil a datblygu deunydd newydd datblygedig.

 

product-3500-1205

 

 

FAQ

 

C: Beth yw'r gofynion storio ar gyfer PEES?

A: Wedi'i sefydlogi ag atalydd TBC. Storio wedi'i selio ar 2 ~ 8 gradd i ffwrdd o olau. Ynyswch ffynhonnell aer a gwres i atal hunan-polymerization finyl a diamddiffyn cynamserol gan asid.

C: Beth yw egwyddor monomer PEES yn system resin photoresist KrF?

A: Mae PEES yn cynnwys grŵp amddiffyn ethoxyethoxy sy'n sensitif i asid. Mae ffotoasid a gynhyrchir ar ôl datguddiad lithograffeg yn sbarduno dadamddiffyniad. Mae'r resin yn newid o alcali-anhydawdd i alcali-hydawdd i wireddu datblygiad patrwm wafferi.

C: Pa amddiffyniad sydd ei angen ar gyfer gweithrediad PEES yn ôl SDS?

A: Mae'n llidro'r llygaid, y croen a'r llwybr anadlol. Dylid gweithredu mewn cwfl mygdarth gyda gogls, menig sy'n gwrthsefyll toddyddion a tharian wyneb.

C: Beth yw'r gwahaniaeth craidd rhwng monomerau photoresist PEES a pACS / PTBS?

A: Mae gan PEES grŵp amddiffyn ethoxyethoxy gyda chyfradd amddiffyn asid cyflym. Mae angen hydrolysis ar pACS ar gyfer dadamddiffyn, mae gan PTBS grŵp tert-butoxy. Maent wedi'u cynllunio ar gyfer sensitifrwydd ffotoresist gwahanol.

C: Beth sy'n digwydd i'r grŵp amddiffyn asid-labile o monomer PEES yn ystod amlygiad ffotoresistiaid KrF?

A: Mae ffotoasid yn cael ei gynhyrchu ar amlygiad. Mae'r grŵp amddiffyn ethoxyethoxy yn hollti'n gyflym. Mae'r polymer yn troi'n strwythur hydrocsyl ffenolig, gan newid o alcali-anhydawdd i alcali-hydawdd ar gyfer datblygu patrwm lithograffig.

 

Tagiau poblogaidd: rhif cas: 157057-20-0 pees / 4- (ethoxyethoxy) styrene, Tsieina cas rhif: 157057-20-0 pees / 4- (ethoxyethoxy) gweithgynhyrchwyr styrene, cyflenwyr